多晶硅是用工業(yè)硅通過化學、物理途徑提純制得，多晶硅主要用于生產單晶硅和衛(wèi)星太陽能電池。單晶硅即硅半導體是多晶硅的衍生產品，是制造繼承電路和電子元件的優(yōu)質材料，被廣泛應用于電子工業(yè)中。

 

還原爐沉積多晶硅是間歇操作，一個運行周期內，硅棒不斷長大，一個運行周期結束后打開鐘罩收割硅棒。但在運行期內，基盤及鐘罩表面均會產生一層土黃色粉末，其主要成分是無定形硅。在收割硅棒后，需要進行基盤和鐘罩的清理，再裝硅芯進行下一個周期的化學氣相沉積。

 

 

還原爐鐘罩污染物易造成內表面熱量反射減少，使生產能耗增加；電極周圍污染物降低了點擊的絕緣而導致運行過程中接地故障、倒棒等生產事故。而用于電子行業(yè)的多晶硅對產品質量純凈度的控制要求更高，

 

隨著我國半導體工業(yè)發(fā)展，對多晶硅純度要求越來越高，還原爐沉積環(huán)境的潔凈度就顯得特別關鍵，任何顆粒性雜質、油脂等物質余留在爐內，都會對產品質量造成影響。那么，如何清理能方便快捷，同時效果更佳？

 

多晶硅還原爐清洗系統始于2009年，國內第一家研發(fā)設計制造并獲得實用新型專利是北京德高潔清潔設備有限公司，該公司多晶硅還原爐鐘罩清洗系統覆蓋了國內多家多晶硅生產企業(yè)。早期有高壓清洗、化學溶劑低壓清洗、機械拋光等，但大多釆用堿液中壓清洗，這些清洗方式不僅不能將鐘罩清洗干凈，還會損傷表面鍍銀的還原爐鐘罩，為攻克這一難題，一款全新的用于電子級的多晶硅還原爐鐘罩清洗系統應運而生。

 

 

1、多晶硅還原爐鐘罩清洗系統以水為動力，以水力自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內部表面的水力掃射。

 

2、采用可以旋轉和升降的清洗吹干執(zhí)行機構，根據還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位置進行準確定位�？勺詣忧袚Q不同清洗液及吹干，通過控制系統可對清洗、吹干時間等進行調整。清洗時只需一鍵操作即可，操作簡單方便。

 

3、根據還原爐底部法蘭的結構特設計升級后的清洗工作臺，不僅可以滿足對內壁和視孔鏡的清洗，同時也滿足了底部法蘭的清洗�？蓪崿F對法蘭內邊緣的清洗，保證整個法蘭底部都被清洗液覆蓋，并清洗、吹干。

 

4、在整個還原爐的清洗過程中，清洗、干燥中筒內形成微負壓狀態(tài)，防止清洗外溢，同時將底座與筒體下法蘭處的污染物等一并吹掃，通過排污管排出，從而保證了整個過程不會對潔凈區(qū)造成污染。

 

 

經過實際應用，多晶硅還原爐清洗系統整套系統可實現全自動化清洗操作，在一個工作平臺上，一次吊裝可依次實現自動清洗烘干全部功能，完全實現無死角清洗，同時具有完善的聯鎖和保護功能。